Основные публикации лаборатории


    2016 год

    Монографии: 1. Технологические комплексы интегрированных процессов производтсва изделий электроники / А.П. Достанко [и др.]. – Минск: Беларуская навука, 2016. – 251 с.

    Лабораторный практикум: 1. А.П. Достанко, Д.А. Голосов, С.М. Завадский, Я.А. Соловьев, Н.С. Ковальчук, С.Н. Мельников, А.М. Стасишина // Практические занятия по курсу «Проектирование и производство изделий интегральной электроники» / Достанко А.П.[и др.] Минск: БГУИР, 2015.-81с.

    Статьи: 1. Ермоленко М.В., Завадский С.М., Голосов Д.А., Мельников С.Н., Замбург Е.Г. Трибологические характеристики покрытий TiN, полученные методом реактивного магнетронного распыления при пониженном давлении // Трение и износ, 2016, Том 37, № 3. – C. 369-373.
    2. Ermolenko M.V., Zavadski S.M., Golosov D.A., Melnikov S.N., Zamburg E.G. Tribological behavior of TiN films depositid by reactive magnetron sputtering under low pressure // Journal of Friction and Wear. 2016. Vol. 37, № 3. – p. 289-292.
    3. Достанко А.П., Голосов Д.А., Завадский С.М., Мельников С.Н., Окоджи Д.Э., Котинго Д.Д., Рубан Г.М. Формирование пленок нитрида титана методом реактивного магнетронного распыления при пониженном давлении // Проблемы физики, математики и техники. 2016. Т. 27, № 2. – C. 12-17.
    4. Golosov D., Melnikov S., Zavadski S., Kolos V., Okojie J. The increase in thickness uniformity of films obtained by magnetron sputtering with rotating substrate // Plasma Physics and Technology Journal, 2016, Vol. 3, Number 2. – p. 86. (тезисы)
    5. Golosov D., Melnikov S., Zavadski S., Kolos V., Okojie J. The increase in thickness uniformity of films obtained by magnetron sputtering with rotating substrate // Plasma Physics and Technology // Plasma Physics and Technology, 2016, Vol. 3 Number 3. – pp. 100-104. (статья)
    6. Д.А. Голосов, С.М. Завадский, С.Н. Мельников, Xiubo Tian, Окоджи Д.Э, Колос В.В. Ионный источник на основе торцевого холловского ускорителя для предварительной “мягкой” очистки подложек // «Проблемы взаимодействия излучения с веществом», IV Международная научная конференция, посвященная 90-летию со дня рождения Б.В. Бокутя (2016, Гомель). IV Международная научная конференция «Проблемы взаимодействия излучения с веществом», посвященная 90-летию со дня рождения Б.В. Бокутя, 9–11 ноября 2016 г.: [материалы] в 2 частях. Ч. 2 / редкол.: С.А.Хахомов (гл. ред.) [и др.]. – Гомель: ГГУ им.Ф.Скорины, 2016. – C. 32–37
    7. М.В. Ермоленко, Д.Д. Котинго, С.М. Завадский, Д.А. Голосов Тонкопленочные экраны электромагнитного излучения на текстильной основе, нанесенные ионно-лучевым распылением // «Проблемы взаимодействия излучения с веществом», IV Международная научная конференция, посвященная 90-летию со дня рождения Б.В. Бокутя (2016, Гомель). IV Международная научная конференция «Проблемы взаимодействия излучения с веществом», посвященная 90-летию со дня рождения Б.В. Бокутя, 9–11 ноября 2016 г.: [материалы] в 2 частях. Ч. 2 / редкол.: С.А.Хахомов (гл. ред.) [и др.]. – Гомель: ГГУ им.Ф.Скорины, 2016. – С. 51-54
    8. С.Н. Мельников, Д.А. Голосов, С.М. Завадский, Д.Э. Окоджи, Г.М. Рубан, Д.Д. Котинго Применение сквозного моделирования при проектировании систем магнетронного распыления // «Проблемы взаимодействия излучения с веществом», IV Международная научная конференция, посвященная 90-летию со дня рождения Б.В. Бокутя (2016, Гомель). IV Международная научная конференция «Проблемы взаимодействия излучения с веществом», посвященная 90-летию со дня рождения Б.В. Бокутя, 9–11 ноября 2016 г.: [материалы] в 2 частях. Ч. 2 / редкол.: С.А.Хахомов (гл. ред.) [и др.]. – Гомель: ГГУ им.Ф.Скорины, 2016. – С. 249-254
    9. Изменение морфологии платинового электрода на кремнии под воздействием высоких температур / Д. А. Голосов, Д. Э. Окоджи, А. С. Руденков, С. М. Завадский, С. Н. Мельников, В. В. Колос // Материалы и структуры современной электроники : сб. науч. тр. VII Междунар. науч. конф., Минск, 12–13 окт. 2016 г. / редкол. : В. Б. Оджаев (отв. ред.) [и др.]. – Минск : БГУ, 2016. – С. 47–50.

    2014 год

    1. Ageev O.A., Golosov D.A., Zamburg E.G., Alexeev A.M., Vakulov Z.E., Vakulov D.E. Shumov A.V., Ivonin M.N. Researching influence of IBAD PLD parameters on properties of nanocrystalline ZnO thin films // Applied Mechanics and Materials. – 2014. – Vol. 481. – p. 55-59.
    2. Достанко А.П., Голосов Д.А., Завадский С.М., Замбург Е.Г., Вакулов Д.Е., Вакулов З.Е. Электрические и оптические свойства пленок оксида цинка, нанесенных методом ионно-лучевого распыления оксидной мишени // ФТП. – 2014. – Т. 48, № 9. – с. 1274-1279.
    3. Голосов Д.А., Eungsun Byon, Завадский С.М. Совместное функционирование магнетронной распылительной системы и ионного источника на основе торцевого холловского ускорителя //ЖТФ. – 2014, Том 84, № 9. – с. 66-73.
    4. Guo F., Xu J.-Q., Su J.-H., Dang, S.-K., Golosov D.A. Effect of laser irradiation energy on optical properties and morphology of SiO2 films // Journal of Applied Optics. – 2014. – Vol. 35, № 2. – p. 348-352.
    5. Golosov D.А., Melnikov S.N., Zavadski S.М. Effects of magnetic system unbalance on magnetron sputtering characteristics // Plasma Physics and Technology. – 2014. – Vol. 1, № 2. – p. 61-63.
    6. Агеев О.А., Достанко А.П., Джуплин В.Н., Замбург Е.Г., Вакулов Д.Е., Вакулов З.Е., Алексеев А.М., Голосов Д.А., Завадский С.М. Исследование влияния ионной стимуляции при импульсном лазерном осаждении на свойства нанокристаллических пленок оксида цинка // Электронная обработка материалов // Электронная обработка материалов. – 2014. – Т. 50, № 5. – с. 1-6.

    2013 год

    1. Интегрированные технологии микро- и наноструктурированных слоев / А.П. Достанко [и др.]; под общей ред. А.П. Достанко и В.Л. Ланина. – Минск: Беспринт, 2013. – 189 с.
    2. Базовые технологические процессы изготовления полупроводниковых приборов и интегральных микросхем на кремнии. В 3 т. / О.Ю. Наливайко [и др.]. – Мн.: Интегралполиграф, 2013. – 2224 с.
    3. Golosov D.A., Zavatskiy S.M., Melnikov S.N. Physical and electrical properties of yttria-stabilized zirconia thin films prepared by radio frequency magnetron sputtering // Acta Polytecnica. – 2013. – Vol. 53, № 2. – p. 155-159.
    4. Голосов Д.А., Завадский С.М., Мельников С.Н. Сквозное моделирование процессов нанесения покрытий при магнетронном распылении // Вестн. Полоц. Гос. Ун-та. Сер. С: Фундаментальные науки. – 2013. – № 4. – С. 75–82.

    2012 год

    1. Голосов Д.А., Мельников С.Н., Достанко А.П. Расчет элементного состава тонкопленочных слоев при магнетронном распылении мозаичных мишеней // Электронная обработка материалов. – 2012. – Том 48, № 1. – с. 63-72.
    2. Голосов Д.А., Достанко А.П., Мельников С.Н. Распределение толщины тонкопленочных слоев при магнетронном нанесении на линейно перемещаемые подложки // Вакуумная техника и технология. – 2012. – Том. 22, № 1. – с. 27-34.
    3. Голосов Д.А., Завадский С.М., Мельников С.Н. Моделирование процесса нанесения тонких пленок в установках магнетронного распыления // Физика и химия обработки материалов. – 2012. – № 4. – с. 28-37.