- Разработка ионных источников для процессов ионно-лучевого распыления, двойного ионно-лучевого распыления, ионно-ассистированного нанесения слоев (IBAD);
- Разработка магнетронных распылительных систем и несбалансированных магнетронных распылительных систем, в том числе для процессов магнетронного распыления при пониженном давлении;
- Процессы реактивного ионно-лучевого и магнетронного распыления;
- Процессы несбалансированного магнетронного распыления;
- Методы нейтрализации ионных пучков;
- Разработка процессов ионно-плазменного нанесения многослойных оптических структур с высокой стойкостью параметров;
- Процессы ионно-плазменного нанесения тонких пленок сегнетоэлектриков и структур FeRAM на их основе;
- Разработка составов и процессов нанесения магниторезистивных тонких пленок;
- Разработка процессов ионно-плазменного формирования функциональных слоев и структур микро-твердооксидных топливных элементов (micro-SOFC);
- Ионно-лучевое травление;
- Ионная полировка оптических деталей;
- Моделирование процессов магнетронного распыления.
- Завадский Сергей Михайлович, кандидат технических наук, директор Центра 9.1.
- Голосов Дмитрий Анатольевич, кандидат технических наук, ведущий научный сотрудник Центра 9.1.
- Телеш Евгений Владимирович, научный сотрудник Центра 9.1.
- Мельников Сергей Николаевич, научный сотрудник Центра 9.1.
- Вилья Пинеда Номар Альберто, аспирант (Боливарианская Республика Венесуэла).
- Нгуен Динь Туен, аспирант (Социалистическая Республика Вьетнам).
- Лам Нгок Нам, магистрант (Социалистическая Республика Вьетнам).
- Голосов Андрей Дмитриевич, магистрант.
- Аюпов Вадим Андреевич, магистрант.
- Шамшуров Павел Юрьевич , магистрант.
- Литвин Эдвард, магистрант.
- Окоджи Джейкобс Эхимэир,кандидат технических наук (Федеративная Республика Нигерия).
О лаборатории
Лаборатория ионно-плазменных систем и технологий входит в состав Центра 10.1 электронных технологий и технической диагностики технологических сред и твердотельных структур научно-исследовательской части БГУИР. Лаборатория создана в 1994 году на базе научного направления “Ионно-лучевые и плазменные процессы и вакуумное оборудование” кафедры Технологии радиоэлектронной аппаратуры. В лаборатории проводятся работы в области исследования и разработки устройств и технологий ионно-плазменного формирования тонкопленочных структур для оптики, нано-, микро-, оптоэлектроники и износостойких, защитно-декоративных тонкопленочных структур.Направления деятельности лаборатории
Состав лаборатории
Аспиранты и магистранты
Стажиующиеся